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磁控濺射及磁控濺射產(chǎn)生的條件-磁控濺射基本原理與工況

本文講解了磁控濺射鍍膜靶電源一文中磁控濺射基本原理與工況章節(jié)的磁控濺射以及磁控濺射產(chǎn)生的條件等相關(guān)的內(nèi)容。

陰極濺射與濺射閥值能量-磁控濺射基本原理與工況

本文講解了磁控濺射鍍膜靶電源一文中磁控濺射基本原理與工況章節(jié)的陰極濺射與濺射閥值能量的內(nèi)容。

輝光放電與等離子體-磁控濺射基本原理與工況

本文講解了磁控濺射鍍膜靶電源一文中磁控濺射基本原理與工況章節(jié)的輝光放電與等離子體的內(nèi)容。

濺射鍍膜真空環(huán)境-磁控濺射基本原理與工況

本文講述了磁控濺射基本原理與工況中的濺射鍍膜真空環(huán)境。

磁控濺射靶電源研發(fā)、設(shè)制與使用小結(jié)——前言

磁控濺射靶電源研發(fā)、設(shè)制與使用小結(jié)系列文章——前言部分

氮化鈦(TiN)薄膜光學(xué)性質(zhì)的研究進(jìn)展

介紹了擬合氮化鈦薄膜光學(xué)常數(shù)常用的色散模型，且結(jié)合第一性原理計(jì)算出的能帶結(jié)構(gòu)和態(tài)密度給予闡述

符合AMS 2750D標(biāo)準(zhǔn)的溫度傳感器的研制與應(yīng)用

簡述美國標(biāo)準(zhǔn)AMS 2750D中系統(tǒng)準(zhǔn)確度測試傳感器、爐溫均勻性測試傳感器、控制溫度傳感器及負(fù)載傳感器的性能、用途、分類與選擇，以及在線原位校準(zhǔn)的優(yōu)點(diǎn)。

CVD金剛石膜中黑色缺陷的存在形式

采用光學(xué)顯微鏡在透射光、反射光和側(cè)光模式下研究了多晶CVD金剛石厚膜中黑色缺陷的存在形式，利用X 射線光電子能譜、拉曼光譜研究了黑色缺陷的組成成分。

RF-PECVD制備類金剛石膜的研究

采用RF- PECVD 法在鍺(Ge)基片上沉積類金剛石（DLC）薄膜，研究了氣體流量和氣壓對沉積區(qū)域均勻性的影響，以及基片厚度與沉積時(shí)間的關(guān)系。

CPC熱管真空管式熱水器實(shí)驗(yàn)研究

研制了一種CPC（復(fù)合拋物面聚焦）熱管真空管式太陽能熱水器。

基于無紙記錄儀的變壓器變壓法真空干燥狀態(tài)監(jiān)控系統(tǒng)

基于PLC或“PLC+上位機(jī)”電力變壓器變壓法真空干燥狀態(tài)監(jiān)控系統(tǒng)，硬件系統(tǒng)相對復(fù)雜，需要A/D轉(zhuǎn)換和人機(jī)界面組態(tài)。

真空壓漿施工工藝及其特點(diǎn)

通過對真空壓漿的的介紹，詳細(xì)的闡述了其施工工藝的基本原理和其特點(diǎn)，從而提高壓漿的質(zhì)量保證和壓漿效率。

真空傳感器在真空冶金工業(yè)的重要應(yīng)用

真空冶金工業(yè)自二十世紀(jì)五十年代發(fā)展以來得到極為廣泛地應(yīng)用。

管道斷面尺寸對真空管道交通建設(shè)成本與運(yùn)營成本的影響

影響真空管道交通建設(shè)成本與運(yùn)營成本的因素很多，其中管道斷面尺寸是最主要的影響因素。管道斷面越小，顯然建設(shè)成本越低。但小管道斷面意味著阻塞比增加和空氣阻力增大，對運(yùn)營成本的影響并非顯然。

真空冷凍干燥超細(xì)天麻粉體的研制

真空冷凍干燥（簡稱凍干FD）是發(fā)展近代生物醫(yī)藥工程與中藥現(xiàn)代化的關(guān)鍵高新技術(shù)。

千山藥機(jī)擬投建10條真空采血管針生產(chǎn)線

榆陽區(qū)打造中國最大真空制鹽基地

“真空等離子體技術(shù)”國際實(shí)驗(yàn)室(CBSL)落戶南理工

等離子體可以用于等離子冶煉、等離子噴涂、等離子焊接。比如，用等離子體沉積快速固化法可將特種材料粉末噴入熱等離子體中熔化，并噴涂到基體（部件）上，使之迅速冷卻、固化，形成接近網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的表層，橡膠圈等如果

卷對卷納米壓印脫模過程的有限元模擬

本文提出卷對卷納米壓印脫模的兩種形式并分析了脫模過程中的阻力。

前蘇聯(lián)蒸汽凝結(jié)與凍干技術(shù)及設(shè)備的世紀(jì)回顧

簡述了前蘇聯(lián)20世紀(jì)40年代以來，對于蒸汽的凝結(jié)和真空冷凍干燥技術(shù)及設(shè)備的研究與應(yīng)用情況，還詳細(xì)介紹了幾種升華干燥設(shè)備及其計(jì)算方法和實(shí)例。