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推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。

各種濺射鍍膜方法的原理及特點

濺射鍍膜有多種方式，其典型方式如本文所示，表中列出了各種濺射鍍膜的特點及原理圖。
真空感應爐脫硫工藝試驗

本文設計了四種不同的冶煉方案，研究了脫硫渣成分配比、脫硫渣量、精煉參數、鋼液中的碳含量、脫硫渣的加入時間等因素對鋼液中硫含量的影響。
狹窄唇邊雙吸口式真空吸取器設計

本文基于真空原理，針對狹窄圓環形工件設計出一種具有狹窄飛邊雙吸口真空吸取器。
真空爐專用熱電偶及其選擇

簡述在特定真空度下溫度測量專用熱電偶的特點、選擇與應用，詳細探討工業鎢錸熱電偶的分類、真空爐專用熱電偶的結構與安裝。
微型節流制冷器在低溫醫療中的發展與應用

文章提出低溫醫療在未來有廣闊的發展前景，倡議國內相關微型節流制冷器的研制單位將該技術應用于低溫醫療。
空間環境和污染對光學器件的影響

用于觀測衛星、氣象衛星、空間望遠鏡上的各種光學器件及其光學涂層必須經受住空間環境和污染的考驗才能保證航天器的可靠性。采取有效措施減少空間環境的影響是解決問題的關鍵。
倒圓錐面基底蒸發鍍膜均勻性理論分析

通過計算得出了蒸發源位于倒圓錐面正下方外部鍍膜時錐面上各點的膜厚方程，并對整個錐面上膜厚均勻性進行了理論分析。
FePtAg-C納米顆粒薄膜的制備及表征

利用磁控濺射法在熱氧化硅基片上成功制成了FePtAg-C顆粒薄膜(其中有MgO籽層)，并利用XRD、SQUID和TEM分別表征其織構、磁性和微觀形貌。
磁透鏡內徑比對條紋變像管性能的影響

本文針對一款高時空分辨率短磁聚焦式飛秒條紋變像管，構建了更符合實際分布的磁場分布模型，分析了磁透鏡內徑比對磁場分布、條紋變像管時空分辨率的影響。
Si(111)基片上Mg2Si薄膜的脈沖激光沉積

本文采用PLD技術，在Si(111) 基片上制備Mg2Si薄膜，研究PLD工藝參數對Mg2Si薄膜制備的影響，通過工藝優化制備得到純相、結構均勻、表面平整的Mg2Si薄膜。
NaCl結構VC薄膜生長過程中原子遷移的第一性原理研究

本文采用第一原理計算的方法研究了C和V原子在NaCl 結構VC 表面和晶體內部(111) 面上的遷移條件，并在此基礎上討論了工藝參數對薄膜生長的影響。
MgxZn1-xO薄膜的紅外光譜及其表面浸潤性

本文采用溶膠-凝膠法制備了不同Mg 含量MgxZn1-xO薄膜，研究了Mg 含量對MgxZn1-xO薄膜微結構和表面形貌的影響。
H2S氣氛下硫化溫度對Cu2ZnSnS4薄膜性能影響的研究

本文采用兩步法制備CZTS薄膜。
有機溶劑對氧化鉍納米結構形貌和場發射性能的影響

為了研究有機溶劑對化學合成法中生成的氧化鉍納米材料結構及場發射性能的影響，反應過程中，分別添加三個不同劑量的有機溶劑，獲得三種產物。利用掃描電鏡對其結構進行分析，并進行場發射性能測試。
氧化處理TiNi合金薄膜的摩擦性能及其對滾動直線導軌滾道的防護

本文采用兩種不同氧化工藝實現TiNi 薄膜的氧化處理。利用球-盤式摩擦實驗機考察了干摩擦條件下表面氧化處理后TiNi 薄膜的摩擦學性能，并鍍制到導軌表面，期望提高導軌的減摩耐磨性能，從而提高其傳動和定位精度。
脈沖偏壓對離子束輔助電弧離子鍍TiN/Cu納米復合膜結構及硬度的影響

本文采用離子束輔助電弧離子鍍技術在高速鋼(HSS) 基體上沉積TiN/Cu納米復合膜，研究基體脈沖偏壓幅值對TiN/Cu納米復合膜的成分、結構及硬度的影響。
脈沖電壓對HPPMS制備CrN薄膜的組織結構與力學性能的影響

本文采用HPPMS技術制備CrN硬質薄膜，重點研究電源脈沖電壓對CrN薄膜的結構和性能的影響。
離子能流密度對AISI304不銹鋼氮化層摩擦性能的影響

采用低溫等離子體氮化技術，對AISI304不銹鋼進行表面氮化處理，考察了離子能流密度對不銹鋼氮化層性能的影響。
砷鐵化合物真空熱分解的從頭算分子動力學模擬

本文對Fe-As化合物在真空條件下熱分解進行了熱力學和從頭算分子動力學模擬。并采用理論計算的方法計算了氣態As分子的結構，及其之間反應的過渡態。
基體放置狀態與脈沖偏壓幅值對大顆粒形貌和分布的影響

本文通過改變基體上施加的脈沖偏壓幅值、靶基面相對位置和基體的放置狀態，來研究這些參數對電弧離子鍍中大顆粒缺陷數目和分布的影響規律，為選擇合適的靶基表面相對位置和脈沖偏壓幅值，減少甚至消除大顆粒引起薄膜