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直流磁控濺射法在玻璃上沉積制備金屬鎳膜的研究

采用直流磁控濺射法在玻璃基板上制備的半透明鎳膜，用原子力顯微鏡(AFM)分析濺射功率對鎳膜的表面粗糙度的影響。

鎳鐵尖晶石涂層的制備、微結(jié)構(gòu)及其耐高溫腐蝕性能的研究

論文針對鋁電解惰性陽極的金屬導(dǎo)桿目前存在的抗高溫氧化性能差，熔鹽腐蝕氣氛中表面的氧化膜易剝落等問題，以在金屬基體上制備一層致密的、粘附性較好的防護(hù)涂層為研究目標(biāo)。

真空玻璃隔熱性能的理論與實驗研究

本文主要針對真空玻璃的隔熱、隔聲性能進(jìn)行相關(guān)研究，其結(jié)論對于真空玻璃在我國的研究和推廣，有一定理論指導(dǎo)和實際應(yīng)用價值。

超薄鉬箔表面CVD金剛石薄膜殘余應(yīng)力的研究

采用周期性磁場輔助熱絲化學(xué)氣相沉積法，以甲烷和氫氣為反應(yīng)氣體，在厚為40μm 的鉬箔表面沉積金剛石薄膜。

涂層結(jié)構(gòu)對高鋁含量Ti1-xAlxN 涂層高溫氧化行為的影響

玻璃型鍍鋁二次表面鏡的制備及其評價試驗研究

介紹了蘭州空間技術(shù)物理研究所鍍鋁OSR 的制備以及及其部分評價試驗情況。

一種鈣鈦礦結(jié)構(gòu)薄膜材料復(fù)數(shù)光學(xué)常數(shù)的反演

獲得一種鈣鈦礦結(jié)構(gòu)鑭鍶錳氧La0.8Sr0.2MnO3薄膜材料的復(fù)數(shù)光學(xué)常數(shù)。

直流磁過濾電弧源沉積氧化鋁薄膜的研究

采用直流磁過濾電弧源技術(shù)制備氧化鋁薄膜，研究分析了薄膜制備中氧氣分量和陰極靶電流分別對薄膜折射率n、沉積速率和消光系數(shù)的影響

真空膜窗材料滲透率的測試分析

本文對真空膜窗單層和雙層膜的滲透特性進(jìn)行的測試分析，為膜窗結(jié)構(gòu)設(shè)計提供必要的依據(jù)。

汽車玻璃節(jié)能隔熱膜的研究進(jìn)展及其應(yīng)用前景

本文總結(jié)了近20 年來國內(nèi)外出現(xiàn)的汽車玻璃節(jié)能隔熱膜的類型，如汽車防爆隔熱貼膜、ITO薄膜、Low-E 低輻射薄膜、透明隔熱涂料涂膜;給出了幾種典型隔熱膜的設(shè)計方法，并對幾種設(shè)計方法的實驗結(jié)果進(jìn)行對比。

半球形工件內(nèi)表面濺射鍍膜的膜厚均勻性研究

本文分別建立了計算模型，將圓平面靶的濺射區(qū)域簡化為線形圓環(huán)跑道，在靶材表面余弦發(fā)射、空間直線飛行的基本假設(shè)下，推導(dǎo)得到了各自的半球形工件內(nèi)表面上的膜厚分布計算公式。

高透可鋼化離線Low-E鍍膜玻璃耐鋼化性能的研究

Low-E鍍膜玻璃由于具有優(yōu)異的節(jié)能性、良好的采光性、超強(qiáng)的環(huán)保節(jié)能性，使得Low-E 鍍膜玻璃正在成為建筑市場的新寵兒。

表面形貌對薄膜疏水性能研究

本文采用多種工藝在鈦合金基體上制備了不同疏水薄膜，通過AFM 及SEM 分析了薄膜的表面形貌，通過接觸角測試法表征了薄膜的疏水性能和表面能，比較了不同表面粗糙度對薄膜疏水性能影響。

真空加熱爐的工作原理及在集輸系統(tǒng)應(yīng)用

本文介紹了真空加熱爐的工作原理與被加熱介質(zhì)的特點，分析了真空加熱爐的技術(shù)性能，對真空加熱爐在油田上的應(yīng)用有一定參考價值。

真空冷凍干燥機(jī)操作中的注意事項及故障判斷

本文簡述了真空冷凍干燥設(shè)備操作中的注意事項和常見故障分析。

真空制鹽節(jié)能降耗之我見

對當(dāng)前真空制鹽節(jié)能降耗之先進(jìn)技術(shù)、成功經(jīng)驗作了初步總結(jié)，提出了工藝節(jié)能、設(shè)備節(jié)能和管理節(jié)能的較具體的措施和辦法。

熱絲CVD低溫下快速制備碳化硅基硅納米晶薄膜的研究

采用熱絲化學(xué)氣相沉積技術(shù)在低溫下制備碳化硅基硅納米晶薄膜。研究了CH4與總氣體流量比R對薄膜生長過程及薄膜特性的影響。

淺談食品真空冷凍干燥技術(shù)

本文介紹了真空冷凍干燥技術(shù)的基本原理，綜述了國內(nèi)外食品冷凍干燥技術(shù)的研究狀況和食品冷凍干燥技術(shù)的運(yùn)用情況，探討了國內(nèi)食品冷凍干燥存在的問題。

多室鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)特點與工業(yè)應(yīng)用

介紹鍍膜技術(shù)的分類、軟硬襯底涂層設(shè)備的結(jié)構(gòu)特點及多室系統(tǒng)、現(xiàn)代卷繞鍍膜機(jī)單室、雙室及三室的真空設(shè)計。

擇優(yōu)濺射對深度剖析譜和深度分辨率的影響

擇優(yōu)濺射是深度剖析實驗中導(dǎo)致所測量元素的成分分布偏離實際的一個重要因素。