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射頻磁控濺射沉積Al/Al2O3納米多層膜的結構及性能
運用射頻磁控濺射技術在Si(100) 基片及40Cr鋼基體上制備了調制周期K= 60nm, 調制比G= 0.25~3的Al/A12O3納米多層膜。
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基片溫度對脈沖激光沉積CNx薄膜的組織結構和摩擦學性能的影響
采用脈沖激光燒蝕氮化碳薄膜靶,在室溫至450℃基片溫度下制備了CNx薄膜。利用掃描電鏡、X射線衍射儀、X射線光電子譜儀和拉曼光譜儀等對薄膜的形貌、結晶性和結合鍵狀態進行了表征。
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大型真空鋁釬焊爐的控制系統的設計開發
對于真空釬焊工藝來說,釬焊爐最重要的兩個性能是真空度和加熱性能,機械系統和電氣控制系統都是圍繞著這兩個性能來進行設計,為了實現釬焊爐的功能,這兩大系統是密不可分的。
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