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推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。

離軸磁控濺射生長鈣鈦礦外延薄膜

本文從磁控濺射原理出發分析離軸磁控濺射相對于其他外延薄膜生長方式的優勢, 介紹了離軸磁控濺射的發展。
雙微通道板紫外像增強器工作特性研究

為了研究雙微通道板(MCP)對紫外像增強器輻射增益的影響,本文利用南京理工大學制造的寬光譜像管增益測試儀,對單MCP和雙MCP紫外像增強器的輻射增益分別進行了測試分析。
氧化鎳溶膠-凝膠薄膜阻變特性研究

用溶膠-凝膠法在ITO基片上旋涂制備了NiO薄膜, 通過對ITO/NiO薄膜/GaIn器件進行伏安特性測試, 研究了溶膠濃度、退火、層數以及Cu摻雜等對其電學特性的影響。
溶膠-凝膠法制備Li摻雜ZnO納米薄膜及其表征

采用溶膠-凝膠法在玻璃基底上制備了ZnOBLi薄膜。研究了薄膜厚度對薄膜結構及光電性能的影響。
可調脈沖功率(MPP)磁控濺射電源研制及放電特性的研究

可調脈沖電源MPP（modulated pulsed power）磁控濺射技術是一種新型的高功率磁控濺射技術。
新型弧光輝光協同共放電(APSCD)真空鍍膜機的研制

本文闡述了新型的弧光輝光協同共放電真空鍍膜機的設計思想及應用，敘述了鍍膜機的整體結構、圓柱靶的設計和磁場模擬、工件籃的結構和輝光弧光共放電的原理。
鎂熱法制備海綿鈦還原產物真空蒸餾分離研究

對目前國內外通用的鎂熱法制備海綿鈦還原工序生成物的組成進行了分析，計算得出了各組分的飽和蒸汽壓值，并對還原反應生成的鈦的低價氯化物真空離解反應進行了熱力學分析。
直流磁控濺射中磁場強度和陰極電壓對圓平面靶刻蝕形貌的影響

本文借助Comsol和Matlab軟件模擬了直流磁控濺射圓平面靶系統的磁場分布和荷電粒子分布，對不同磁場強度和陰極電壓條件下的荷電粒子分布進行了模擬分析。
有限元軟件在真空電弧爐稱重機構結構分析中的應用

首先利用Algor 軟件對真空自耗電極電弧爐的稱重機構進行強度分析，再嘗試更改工況條件，分析其能否滿足VCFW- 8T 的實際使用要求并進行系列化應用。
真空鍍鋼板鋅鎂合金防腐蝕鍍層研究進展

本文綜述了近年來國內外真空鍍制備鋅鎂合金鍍層的研究進展。
工作氣壓對室溫磁控濺射CIGS膜的影響

研究了工作氣壓對磁控濺射法制備CIGS薄膜的影響, 采用X 射線衍射, 掃描電鏡, X 射線螢光光譜和X 射線能量色散譜分析了膜層的組織和成分。
氮氣流量對電弧離子鍍CrN薄膜組織結構和性能的影響

利用電弧離子鍍技術在高速鋼基體上于不同氮氣流量條件下制備CrN薄膜樣品，分析了薄膜的硬度、彈性模量、厚度、表面形貌和物相結構。
中國研發真空管道磁懸浮
真空管道汽車能否走出夢想？

目前關于真空管道運輸的研究主要集中于高速列車上的使用。當關于真空管道列車的討論正風生水起時，關于真空管道汽車的探討卻是一片死寂，汽車領域的專家表示還未考慮真空管道運輸技術。
太陽能選擇性吸收薄膜研究進展及展望

本文從太陽能選擇性吸收薄膜的原理出發，對材料選擇、吸收機理以及制備方法等方面進行了介紹，對限制太陽能選擇性吸收薄膜性能的主要因素進行了分析。
太陽能選擇性吸收薄膜的國內外發展現狀

對太陽能選擇性吸收薄膜的國內外發展現狀進行了論述。
太陽能選擇性吸收薄膜常用制備方法

太陽能選擇性吸收薄膜常用的制備方法主要有化學鍍、電化學沉積法( 電鍍和陽極氧化法)、化學轉換著色法、溶膠凝膠法、刷涂法、高頻磁控濺射法、氣相沉積法及等離子噴涂法等。
太陽能選擇性吸收薄膜材料選擇與吸收機理

金屬、金屬氧化物、金屬硫化物和半導體等成為制備太陽能選擇性薄膜的主要材質，形成了很多種類型的綜合應用為主要類型的多種太陽能選擇性薄膜。
太陽能選擇性吸收薄膜的基本原理

物體的溫度不同，在相同的波長下，吸收比也不等于發射率；不同的波長，物體的吸收比與發射率也不相等，這就是太陽能選擇性吸收薄膜的最基本的理論依據。
淺談真空鍍鋁紙產生的經濟效益

本文對真空鍍鋁紙的概念、優點、應用的領域及產生的經濟效益進行了簡單的概述。