真空應(yīng)用
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環(huán)境壓強(qiáng)對電刷鍍In/Ni固體潤滑涂層摩擦學(xué)性能的影響
為了探索軟金屬銦在真空環(huán)境中的潤滑性能, 用電刷鍍技術(shù)在45#鋼表面制備了In/Ni復(fù)合固體潤滑涂層, 并對比研究了該復(fù)合鍍層在大氣環(huán)境、低真空環(huán)境和高真空環(huán)境下的摩擦學(xué)性能和磨損機(jī)制。
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速調(diào)管雙耦合孔輸出腔外觀品質(zhì)因數(shù)的計(jì)算
提出了一種采用散射參數(shù)S21曲線來計(jì)算速調(diào)管雙耦合孔輸出腔外觀品質(zhì)因數(shù)的方法。
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含鈦MoS2合金減摩鍍層摩擦學(xué)性能研究
應(yīng)用閉合磁場非平衡磁控濺射離子鍍技術(shù), 制備了不同Ti含量的MoS2合金減摩鍍層, 研究了添加元素Ti含量對鍍層厚度、硬度、摩擦系數(shù)等的影響規(guī)律。
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含Ag2O型高密度聚乙烯基真空蒸鍍復(fù)合膜的抗菌性研究
本文通過真空蒸鍍法制備得到含銀型高密度聚乙烯(HDPE)基抗菌復(fù)合膜(Ag2O/HDPE) , 利用原子力顯微鏡、掃描電子顯微鏡及原子吸收光譜法測試手段對膜進(jìn)行了表征, 并考察了復(fù)合膜的抗菌動(dòng)力學(xué)和抗菌長效性, 以及對細(xì)菌的
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有機(jī)光電器件ITO陽極表面改性及其時(shí)效性研究
采用射頻氧等離子體(RFOP)處理對氧化銦錫(ITO)薄膜表面進(jìn)行改性, 通過原子力顯微鏡、X射線光電子能譜、X射線衍射儀和接觸角儀等測試表征, 研究了改性對ITO表面性質(zhì)的影響。
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基于相空間方法的電子轟擊離子源參數(shù)對其性能影響的研究
利用離子光學(xué)模擬軟件SIMION7.0, 對自制的電子轟擊離子源(EI) 進(jìn)行模擬試驗(yàn), 獲得離子在EI內(nèi)的運(yùn)動(dòng)參數(shù), 包括位置、速度。
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濺射氣壓對碳化釩薄膜微結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能的影響
采用碳化釩靶的磁控濺射方法在不同的Ar氣壓下制備了一系列碳化釩薄膜, 利用能量分析光譜儀, X射線衍射,掃描電子顯微鏡, 原子力顯微鏡和微力學(xué)探針研究了氣壓對薄膜成分、相組成、微結(jié)構(gòu)以及力學(xué)性能的影響。
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分子動(dòng)力學(xué)模擬不同入射能量的CH與碳?xì)浔∧さ南嗷プ饔?/a>
使用分子動(dòng)力學(xué)方法模擬低能CH與碳?xì)浔∧さ南嗷プ饔? 以探討在核聚變過程中CH的再沉積行為及對面向等離子體材料性質(zhì)變化的影響。
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K417高溫合金電磁攪拌法真空晶粒細(xì)化技術(shù)研究
使用X射線衍射分析儀、掃描電鏡、電子拉伸試驗(yàn)機(jī)、高溫金相顯微鏡研究了在模殼內(nèi)壁表面的涂層中添加孕育劑鋁酸鈷和在真空熔鑄過程中施加工頻旋轉(zhuǎn)電磁攪拌對K417高溫合金真空精密鑄件凝固組織和性能的影響。
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氣相沉積硅薄膜微結(jié)構(gòu)及懸掛鍵缺陷研究
在單晶Si(100)基體上利用電子回旋共振等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法制備硅薄膜, 并采用X射線衍射譜(XRD)、透射電鏡(TEM)、Raman光譜、電子自旋共振(ESR)波譜等實(shí)驗(yàn)方法研究了不同Ar流量下硅薄膜微結(jié)構(gòu)及懸掛鍵密度的變
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真空熱處理對鍍Al薄膜NdFeB磁體組織和耐蝕性的影響
用直流磁控濺射工藝, 在NdFeB磁體表面鍍Al薄膜, 并對鍍Al薄膜的磁體進(jìn)行真空熱處理, 研究工藝、溫度和時(shí)間對鍍層成分、組織和性能的影響。
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激光熱處理對類金剛石薄膜結(jié)構(gòu)的影響
用真空陰極過濾電弧法沉積了厚度為2nm的類金剛石(DLC)薄膜, 研究了激光加熱退火時(shí)薄膜結(jié)構(gòu)和表面粗糙度的變化, 分析了激光加熱功率對薄膜結(jié)構(gòu)的影響。
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FG型真空絕熱板使用壽命評估
真空絕熱板( VIP) 的使用壽命是目前研究者和使用者最為關(guān)注的問題之一, 如何有效保證其在長期使用過程中依然保持高性能熱阻需要進(jìn)行理論和試驗(yàn)研究。
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