真空應(yīng)用
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多晶硅鑄錠爐擴(kuò)容后的安全性分析及安全措施研究
本文針對(duì)目前主流的多晶硅鑄錠爐裝爐量與設(shè)備安全性進(jìn)行分析,通過(guò)強(qiáng)度變形量計(jì)算及熱力學(xué)分析與目前的各種安全措施進(jìn)行比較,從而提出比較理想的安全改進(jìn)措施。
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退火處理對(duì)La0.6Sr0.4MnO3/Fe-Ni 復(fù)合物吸波性能的影響
采用溶膠- 凝膠法制備La0.6Sr0.4MnO3,真空球磨法制備FeNi3 合金,將FeNi3 合金與La0.6Sr0.4MnO3按比例混合進(jìn)行真空球磨復(fù)合,后對(duì)復(fù)合樣品進(jìn)行退火。
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射頻磁控濺射法ZnO薄膜制備工藝的優(yōu)化
在采用射頻磁控濺射在Si 和玻璃襯底上制備單層ZnO 薄膜時(shí),薄膜會(huì)受到濺射功率、襯底溫度、氧氬比以及工作氣壓等的影響。本文中將詳細(xì)討論這些因素對(duì)ZnO薄膜晶體質(zhì)量,應(yīng)力以及光學(xué)性能的影響。
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基于分子蒸餾原理的金屬銫提純實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)研制
為了研究分子蒸餾方法對(duì)金屬銫內(nèi)雜質(zhì)元素的去除性能,研制了一套基于分子蒸餾原理的金屬銫提純系統(tǒng)—刮膜式分子蒸餾系統(tǒng),開(kāi)展金屬銫提純實(shí)驗(yàn)研究。
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新型節(jié)能玻璃真空鍍膜機(jī)將在建筑行業(yè)發(fā)揮巨大功效
低輻射玻璃與多功能鍍膜玻璃又稱保溫玻璃,具有最大的日光透射率和最小的反射系數(shù),提高了能量利用率,在采暖建筑中可起到保溫與節(jié)能的作用。
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國(guó)內(nèi)首臺(tái)大直徑盾構(gòu)機(jī)用真空吸盤在鐵建重工研制成功
盾構(gòu)機(jī)用大噸位真空吸盤在鐵建重工試制成功并通過(guò)廠內(nèi)驗(yàn)收,得到客戶的認(rèn)可,成為國(guó)內(nèi)首臺(tái)具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的大直徑盾構(gòu)機(jī)用真空吸盤,填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)主機(jī)企業(yè)自制管片真空吸盤的空白。
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真空管道交通 - 人類交通困境的有效解決途徑
技術(shù)分析與科學(xué)研究表明,真空管道高速磁浮交通具有獨(dú)特的優(yōu)良性能,可望從根本上解決交通運(yùn)輸所面臨的一系列問(wèn)題。
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提高含硅納米晶LED亮度的方法研究
本文研究了Si-nc濃度、襯底材料的電阻率、Si-nc與不同基體之間的界面勢(shì)壘、場(chǎng)效應(yīng)、電致表面等離子體等方法對(duì)硅納米晶的電致發(fā)光強(qiáng)度的影響。
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真空感應(yīng)熔煉技術(shù)的發(fā)展及趨勢(shì)
介紹了真空感應(yīng)熔煉技術(shù)的發(fā)展過(guò)程以及感應(yīng)冶煉技術(shù)在不同場(chǎng)合的應(yīng)用。針對(duì)不同真空感應(yīng)爐爐型的結(jié)構(gòu),比較各自優(yōu)劣勢(shì)。展望未來(lái)真空感應(yīng)爐的發(fā)展方向,闡述其發(fā)展趨勢(shì)。
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氧分壓對(duì)直流磁控濺射IGZO薄膜特性的影響
本文采用直流磁控濺射技術(shù),在室溫下通過(guò)改變氧分壓的工藝條件制備了IGZO 薄膜,系統(tǒng)性的分析了氧分壓對(duì)薄膜的物相結(jié)構(gòu)、表面形貌、元素結(jié)合能及電學(xué)與光學(xué)等特性的影響。
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真空條件下硫蒸氣的從頭算分子動(dòng)力學(xué)模擬
本文對(duì)硫在高溫、真空下可能發(fā)生的反應(yīng)進(jìn)行了熱力學(xué)計(jì)算,同時(shí)采用DFT的從頭算分子動(dòng)力學(xué)方法對(duì)硫原子團(tuán)簇進(jìn)行動(dòng)力學(xué)模擬,得到模擬前后硫原子團(tuán)簇的結(jié)構(gòu)和穩(wěn)定性的變化,并進(jìn)一步計(jì)算得到S2分子在高溫、真空下的蒸
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從iphone6s玫瑰金看真空電鍍手機(jī)市場(chǎng)
真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣,氬氣樁基靶材,靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。本文從從iphone6s玫瑰金看真空電鍍手機(jī)市場(chǎng)的發(fā)展情況。
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硬質(zhì)涂層的發(fā)展、現(xiàn)狀及未來(lái)
未來(lái)隨著工業(yè)需求的不斷增加,對(duì)硬質(zhì)涂層的要求也將愈發(fā)嚴(yán)格。未來(lái)的涂層將有兩大趨勢(shì):超硬涂層和低摩擦系數(shù)涂層。
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42CrMo鋼空氣離子氮氧共滲研究
本研究探索普通空氣是否可作為離子氮氧共滲的氧氣源,并系統(tǒng)研究不同空氣流量對(duì)42CrMo鋼離子氮氧共滲復(fù)合滲層組織與性能的影響,探討離子氮氧共滲復(fù)合處理機(jī)理
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化學(xué)氣相沉積/原子層沉積銅前驅(qū)體的研究進(jìn)展
本文介紹了利用化學(xué)氣相沉積技術(shù)與原子層沉積技術(shù)沉積銅薄膜工藝的研究;概述了應(yīng)用所述前驅(qū)體進(jìn)行銅薄膜沉積的參數(shù)及所制備銅薄膜的導(dǎo)電性能。
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真空斷路器真空度與電場(chǎng)電位關(guān)系研究
本文借助于有限元分析軟件ANSYS對(duì)不同壓強(qiáng)下的真空斷路器滅弧室屏蔽罩及其周圍電場(chǎng)進(jìn)行仿真分析,并通過(guò)模擬滅弧室真空測(cè)量實(shí)驗(yàn)對(duì)分析結(jié)果進(jìn)行驗(yàn)證,借此探索出真空斷路器滅弧室內(nèi)真空度與滅弧室外電場(chǎng)電位間的對(duì)應(yīng)
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