真空應(yīng)用
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脈沖激光沉積ZrW2O8/ZrO2復(fù)合薄膜及其靶材制備
采用化學(xué)共沉淀法合成26wt %ZrW2O8/ ZrO2近零膨脹復(fù)合陶瓷靶材,并以脈沖激光法在石英基片上沉積制備了ZrW2O8/ZrO2復(fù)合薄膜。
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離子束濺射制備CuInSe2薄膜的研究
利用離子束濺射沉積技術(shù),設(shè)計(jì)三元復(fù)合靶,直接制備CuInSe2 薄膜。通過X射線衍射儀 、原子力顯微鏡和分光光度計(jì)檢測在不同襯底溫度和退火溫度條件下制備的薄膜的微結(jié)構(gòu)、表面形貌和光學(xué)性能。
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工業(yè)純鐵等離子體氮化及Ti/TiN多層薄膜沉積復(fù)合處理研究
采用低偏壓高頻等離子浸沒離子注入及氮化技術(shù)(HLPⅢ) 對工業(yè)純鐵進(jìn)行表面改性,然后利用非平衡磁控濺射技術(shù)(UBMS) 在低壓高頻等離子浸沒離子注入及氮化處理樣品表面制備Ti/TiN多層膜。
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CaC2還原MgO熱力學(xué)分析與實(shí)驗(yàn)研究
對常壓及真空條件下以碳化鈣為還原劑制取金屬鎂的熱力學(xué)分析,計(jì)算出平衡狀態(tài)下鎂蒸汽的露點(diǎn),并進(jìn)行真空熱還原實(shí)驗(yàn)研究。
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電子束蒸發(fā)法制備摻釔穩(wěn)定氧化鋯薄膜的光學(xué)特性研究
利用電子束蒸鍍方法在單晶硅和石英玻璃上制備了摻不同Y2O3 濃度的摻釔穩(wěn)定ZrO2薄膜(YSZ) ,用X射線衍射、原子力顯微鏡、掃描電子顯微鏡和透射光譜測定薄膜的結(jié)構(gòu)、表面特性和光學(xué)性能,研究了退火對薄膜結(jié)構(gòu)和光學(xué)性能
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磁控濺射薄膜生長全過程的計(jì)算機(jī)模擬研究
本文結(jié)合了PIC ,MC , EAM,CIC 等方法對整個等離子體磁控濺射成膜過程進(jìn)行了多尺度的計(jì)算機(jī)模擬,并系統(tǒng)研究了磁控濺射成膜過程中基板溫度、磁場分布、靶材-基板間距等參數(shù)對成膜的影響。
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液體真空蒸發(fā)凍結(jié)過程的動力學(xué)研究
介紹了液體物料真空蒸發(fā)凍結(jié)過程中出現(xiàn)的暴沸、過冷、凍結(jié)等實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象。
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縫紉機(jī)針桿表面沉積含過渡層DLC薄膜及性能的研究
同時放入縫紉機(jī)針桿(不銹鋼)、WC 合金、Si 片,并分別制備了DLC、Cr/DLC、Cr/CrC/DLC 三種膜層結(jié)構(gòu)的DLC 薄膜,并對薄膜的表面形貌和性能進(jìn)行了研究。
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凍干法保存飽水木質(zhì)文物研究進(jìn)展
介紹了國內(nèi)外處理飽水木質(zhì)文物的冷凍干燥法的研究動態(tài),其中重點(diǎn)介紹了以聚乙二醇(PEG)為保護(hù)劑的冷凍干燥法。
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磁控濺射靶的磁路設(shè)計(jì)
本文中的磁場設(shè)計(jì), 提高了磁力線平行靶面的范圍, 對靶面的均勻?yàn)R射和靶材的利用率與通常的磁場結(jié)構(gòu)相比有很大的提高。
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一種全靶腐蝕磁控濺射設(shè)備
基于一種利用磁場將等離子體產(chǎn)生與濺射分開的這種結(jié)構(gòu)構(gòu)造了一個實(shí)驗(yàn)平臺對其進(jìn)行了研究, 實(shí)現(xiàn)了全靶腐蝕, 提高了系統(tǒng)的穩(wěn)定性。
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電沉積法制備CuInS2薄膜
采用單步電沉積法和兩步電沉積法在Mo基底上制備CuInS2薄膜,用X射線衍射儀(XRD)和掃描電子顯微鏡(SEM)表征了樣品的結(jié)構(gòu)和形貌,用能量散射儀(EDX)測試了樣品中各元素含量。
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山楂漿抽真空凍結(jié)干燥的實(shí)驗(yàn)研究
開展山楂漿抽真空自凍結(jié) , 優(yōu)化干燥工藝的方法, 實(shí)現(xiàn)節(jié)能降耗, 縮短干燥時間, 降低產(chǎn)品成本的目的, 開辟一條山楂加工的新途徑。
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基于單片機(jī)和CPLD的無線膜厚監(jiān)測系統(tǒng)
闡述了一種基于單片機(jī)和復(fù)雜可編程邏輯器件(CPLD)的無線膜厚監(jiān)測系統(tǒng)的功能、結(jié)構(gòu)、硬件、軟件等原理及其實(shí)現(xiàn)。
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太陽能和風(fēng)能的短期分散儲存
運(yùn)用太陽能和風(fēng)能是解決能源問題的根本和長期的途徑,從產(chǎn)業(yè)發(fā)展的角度看,太陽能和風(fēng)能的短期分散儲存的設(shè)備會形成一個新的大規(guī)模的工業(yè)部門。
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