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離子轟擊對HIPIMS制備TiN薄膜結構和性能的影響
本文采用HIPIMS技術制備TiN薄膜,通過調整基底旋轉方式控制基體是否接受離子持續轟擊,進而研究離子轟擊對薄膜結構、表面形貌以及性能產生的影響。
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活塞環表面CrMoN復合薄膜的結構及摩擦學性能研究
本文采用閉合場非平衡磁控濺射技術,通過改變Mo靶電流值大小在活塞環表面制備了不同Mo原子百分含量的CrMoN復合薄膜,并對其化學成分、相結構、表面形貌進行研究。比較研究了電鍍Cr活塞環與CrMoN復合薄膜活塞環的硬度
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射頻磁控濺射法制備TiSiN納米復合涂層的結構與性能研究
本文采用工業上較為常用的射頻磁控濺射工藝制備了TiSiN涂層,系統研究了不同濺射氣壓、不同基片溫度以及不同N2/Ar氣流比條件下TiSiN納米復合涂層的微觀結構與力學性能,并對TiSiN涂層的濺射工藝進行優化,以期為該涂
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香蕉片微波真空干燥的工藝參數優化
本文以福建省主栽名優香蕉品種天寶香蕉果實為原料,重點研究香蕉片微波真空干燥的最佳工藝參數及其對香蕉片產品色差、脆度、膨化率和感官質量等品質的影響,旨在提高香蕉片干制品品質,為應用微波真空干燥開發新型香
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真空管道中高溫超導磁懸浮車運行時的振動能耗特性
文中討論磁浮車在這種軌道上的動能損耗與磁浮車運行速度的關系。將一定真空環境中運行著的高溫超導磁浮車的這種振動近似為彈簧的阻尼振動,然后根據高溫超導體的特性及相應測量值來確定其剛度系數與阻尼系數,從而考
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直流電弧等離子蒸發法制備納米銀粉及其表面改性
本文制備的銀粉平均粒徑為54nm,粒徑分布在5~220nm區間,測試其在無水乙醇中的pH-zeta電位,并系統研究了表面活性劑種類、加入量及超聲時間對銀粉分散性能的影響,將該粉體應用在導電漿料中測試其電性能,并對其分散
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高真空多層絕熱低溫儲罐中含PdO的吸氣劑在77K下吸附性能的研究
本文以BET(Brunauer-Emmet-tTeller)等溫式為基礎,再利用統計熱力學方法,建立吸氣劑吸附等溫線的理論模型,并利用實驗數據對該模型進行驗證和分析,借此評價它的準確性和適用范圍,進而從理論上獲得吸氣劑的吸附機
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藍寶石鍍Ti/Ni復合膜及高溫預擴散的研究
本文主要研究了900 ℃ 下, 不同膜厚的鍍Ti/ Ni藍寶石在不同的保溫時間下的擴散效果, 研究了表面成分及微觀結構與其鍍膜厚度的關系, 從而總結出藍寶石的最佳鍍膜厚度及高溫預擴散工藝規律,該規律對今后的實踐應用
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鋁合金表面磁控濺射Cu膜的鍍制及其低溫釬焊性能研究
Ti作為過渡層可改善膜基結合力,本文采用離子注入技術與磁控濺射鍍膜結合的方法對鋁合金進行表面改性,主要考察了磁控濺射鍍膜中基體偏壓對薄膜沉積速率、表面形貌、相結構以及低溫釬焊性能的影響。
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微晶硅薄膜材料的沉積以及微結構與光電特性的研究
本文采用RF-PECVD技術,在較高的射頻功率和沉積氣壓條件下,通過改變硅烷濃度和襯底溫度等參數,制備微晶硅薄膜材料。研究了沉積參數對微晶硅薄膜材料的微結構以及光電特性的影響,并研究了它們光電特性及其相關性。
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等離子體增強原子層沉積系統及其應用研究
關于ALD技術和工藝的研究已經較為深入,關于PEALD技術和應用的研究也越來越受到研究者的關注。為了深入研究PEALD的關鍵技術和工藝條件,作者設計了一套遠程脈沖PEALD系統,并首次探索了其在原位沉積氮摻雜納米TiO2可
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直流熱陰極PCVD法間歇生長模式制備透明金剛石膜
采用直流熱陰極PCVD技術,進行了甲烷和氫氣條件下加入氮氣制備透明金剛石膜的研究,主要是通過設置刻蝕步驟,改變溫度和時間參數,在間歇生長模式下使氫和氮原子共同作用,實現對非金剛石成份的刻蝕和金剛石的擇優取
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影響真空濺射用射頻電源特性因素的研究
本文主要研究了射頻電源的功率轉換效率和頻率穩定性的影響因素,分析了E 類功率放大器的工作特性,推演了最大輸出功率;設計了射頻電源驅動級電路,并對其進行了實驗測試。
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外延BiFe0.95Mn0.05O3薄膜的結構和性能研究
本文選擇用5%的Mn離子代替BiFeO3中的Fe離子,用磁控濺射的方法在SrTiO3單晶基片上外延生長了BiFe0.95Mn0.05O3薄膜,探索制備外延薄膜的最佳工藝條件,分析沉積溫度對薄膜結構和電學性能的影響。
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酸化紙質文物水溶液真空脫酸和冷凍干燥試驗研究
為了提高紙質文物的脫酸效率并改善脫酸后紙質文物的干燥效果,本文將以真空脫酸的方式對紙質文物進行高效脫酸,并采用真空冷凍干燥技術對脫酸后的紙質文物進行凍干,為批量紙質文物脫酸干燥提供經驗。
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